RTP快速退火炉

RTP快速退火炉的主要特点有：可在真空/不同气氛/空气不同环境下，对样品进行快速热处理；控温精度高；适合高等院校或研究机构科研使用；主动式水循环冷却模式；立式设计；仪器采用触摸屏技术：操作方便，装取样片简单高效；价格合理，高性价比。

RTP快速退火炉的主要技术参数如下 
加热元件：卤素电极；

电极数量：12支；
整机功率：7.2KW；
升温速率：200℃/S；
降温速率：30秒(1000℃ → 400℃)；
较高温度：1100℃；
温度精度：+/- 1℃；
较大样品尺寸：4英寸；
气氛环境：真空、气体（氮气、氩气、氧气）、空气；
真空系统：可根据实际需要选配无油机型泵或者分子泵

应用领域：
-快速热退火 
 - 快速热氧化 
- 快速热氮化
 - 硅化 
- 扩散 
- 化合物半导体退火 
- 离子注入后退火
- 电极合金化
- 晶向化和坚化 
- 合金熔点分析;
- 薄膜沉积;  等等…